坑是不可能坑的，因為張堯自己也用了。反正愛怎麼就怎麼著吧，就算出點岔子，禿也是三個人一起禿。
不過張堯喊姜復回來自然不可能單純為了這件事。
張堯看著姜復問道:“5nm光刻機的進度，你那邊怎麼樣了？”
姜復搖了搖頭道:“有點問題，有些環節想要繞過其他國家的專利有點難。”
王浩好奇道:“真有這麼難嗎？連你出馬都有問題？”
“不是一般的難！”
說起光刻機華夏人都不陌生，大多數人瞭解到這種機器還是因為前幾年的華威斷供事件。
光刻機解釋起來不復雜，它主要用於將晶片設計圖案轉移到矽晶圓上。
工作原理類似於底片曝光洗印機，將掩膜上的圖案透過光刻過程轉移到矽晶圓上，形成晶片。
這聽上去並不是很難，你甚至可以說它是一件高階作圖機器。
但如果把它換成奈米級別的呢？
這個對精度的要求是不是就恐怖了！
光刻機包含大量的機械部件和電子元件，需確保每一個部件的穩定性和精確度。組裝過程中，機器內部溫度的控制需達到千分之五度的精度，這就要求有高效的冷卻方法和精準的測溫感測器。
以SMEE的光刻機為例，其包含13個分系統，3萬個機械件，200多個感測器，組裝過程對精度和穩定性要求極高。
光刻機對精密性的要求極高，運動控制精度和位置測量精度需達到奈米級別。
例如，光刻機中的兩個工件臺，一個載底片，一個載膠片，需始終同步運動，且誤差控制在2奈米以下。
越高階的光刻機在這一步要求越高，這要求它具備極高的運動控制精度和穩定性，同時要控制溫溼度和空氣壓力，以保證對焦的準確性。
極紫外光刻機需要極高的能量光源，而EUV光刻機的能源轉換效率只有0.02%左右。
EUV光刻機使用的光源和透鏡都必須能夠承受高能量的照射，且光刻機中的光學鏡片需要特殊的材料來製造，以實現高精度的成像。
另外還有光刻膠和掩模技術，熱管理，光學鏡片等等難題。
光刻機的組成和技術難點涵蓋了機械、電子、光學，材料等多個領域，對技術的要求極高。
它幾乎是整個人類文明發展以來所有高精尖技術的結合體，是半導體工業皇冠上最璀璨的明珠。
它不是一個國家制備出來的，而是一群國家的高科技匯聚在一起製成的。
包括了荷蘭精密工程和光學技術，米國的軟體、演算法和某些高階部件，小日子國的半導體制造，棒子國的技術最佳化等等。
華夏進入這個領域的時間已經比較晚了，但就算這樣，華夏依然是世界上能獨立製造光刻機的國家之一，而且在中低端市場份額已經超過一半。
只不過在高階市場上這些國家防的很死，連賣都不賣給華夏，更別提技術授權了！
張堯之前有想過用鋰負極電池專利來交換這些東西，但想了想還是放棄了。
不值得！
最關鍵的演算法和零部件國內目前搞不定，就算勉強換了過來大概也是個空殼。
還是得靠自己！
張堯這樣問姜復，自然不是耍他玩，而是想把這方面的鑰匙交給他。
是的，張堯有辦法！
其實這個問題他在剛上大學的時候就考慮過，那個時候研究的車床就是為了製造能用在類似於光刻機這類頂級儀器的零部件。
只不過當時的他在這方面能力不夠，所以只淺嘗輒止。花了快一年才勉強搞出來那一份半圖紙，還把王浩和姜復折騰的要死。