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這群人都有類似的特徵——聰明無比，精力旺盛，對於金錢和權力，有著無窮無盡的渴望，也有足夠的能力拿到他們想要的。
他們的最高目標，是讓整個世界都按自己的規則運轉，為此，不擇手段只是最基本的操作。
這真是一個美好的世界！
直到宋默予突然注意到一個人。
他在和國內朋友的閒聊中， 光刻大戰
井熙正在煩惱著, 自己究竟要不要認認真真的，把極紫外光刻機給做出來。
最開始她下注極紫外光的時候，是真沒想到能這麼快就出成果, 而純粹是出於一個研究者的本能——反正專案開都開了, 多試試也沒壞處。
晶片領域有一個很著名的定律叫做摩爾定律, 大概意思是每隔兩年, 晶片的效能將增加一倍，單位面積內可以容納的元器件數量也將翻一倍。
這也就意味著, 八十年代的晶片，和若干年以後的比……根本就毫無比較的價值。
雖然若干年後，光刻是晶片行業絕對的皇冠，甚至大國博弈間的重要砝碼, 但是在這個連蝕刻尺寸都還以微米計算的時代，挑戰奈米級別的技術，感覺跟神經病也差不太多。
這個年代的光刻機技術, 因為過於粗獷的蝕刻尺寸, 其實難度並不高，甚至還有人在自家的地下室裡就手工做出一臺光刻機的。
光刻說穿了也不難, 就是利用掩膜和曝光技術以及物理蝕刻, 將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，從而生產出晶片的技術。
20世紀60年代，因為國防和航天業的飛速發展，米國對積體電路的要求越來越高, 大量資金和機會彙集過來，由此出現了第一批專業的晶片裝置製造商。
與此同時，歐洲也不甘落後，在荷蘭埃因霍溫的飛利浦實驗室裡, 年輕的實驗員克洛斯特曼開發出了第一臺6鏡頭重複曝光光刻機。
時間進入七十年代，相位光柵和鏡後側光結合進行投影和對準，高自動化水平的氣動控制等技術的應用，讓飛利浦實驗室的技術繼續在全球保持領先，掩膜圖案縮小到兩英寸，圓晶直徑三到四英寸，最細的線條只有兩微米寬，誤差在十分之一微米以內。
而這個時候，在晶片技術上國內其實並沒有被甩得太遠。
1972年，四川永州半導體成立，第二年就引進了當時最先進的3英寸圓晶生產線，領先臺灣兩年，韓國四年。而三星半導體78年才出現，至於臺積電，更是直到87年才正式登上歷史舞臺。
到了八十年代初期，因為米國晶片產業升級，再加上兩國間短暫的蜜月期，國內開始用很便宜的價格大量引進二手生產線，裝置是便宜，競爭力也幾近於無，至此以後，國內晶片產業就開始了長時間的落後，直到三十年後才在一部分大尺寸領域艱難趕上，但是更精密的10奈米級別以內，依然被牢牢的卡著脖子。
現在，或許真是進入光刻領域的好時候——井熙想。
七十年代末，大規模積體電路正逐漸被超大規模積體電路所取代，而飛利浦實驗室在光刻機領域卻出現頹勢，另一種結構更簡單，速度更快的光刻機正飛快搶佔市場，而飛利浦實驗室的光刻機，甚至還無法大規模量產。
又過了幾年，公司終於對自家的半導體研發失去耐心，準備把光刻機業務賣掉，或者找一個合作者來分攤成本。
很遺憾，因為他們手裡的技術看上去沒什麼優勢，幾家大公司都拒絕了邀請，最後只有一家荷蘭小公司態度積極，最終以注資210萬美元的條件，拿到了一半股份。
而這家被廉價甩賣股份的光刻機公司，就是若干年以後的光刻王者，荷蘭的a□□l。
掐指一